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るつぼ型誘導加熱メタライザー
高真空メタライザーシリーズ

るつぼ型誘導加熱メタライザー

高均一熱蒸着システムは、中間周波誘導加熱IGBT蒸着源を採用しており、高い加熱効率と高速性を実現し、ピンホールを効果的に低減します。

シーメンスの PLC は蒸発を正確に制御し、システムの調整、安定性、信頼性を高めながら、より均一なコーティングを実現します。

    製品紹介

    ☑ ‌中周波誘導ロールツーロールメタライジングマシンは、誘導加熱技術を利用して薄膜コーティングを実現する真空蒸着システムです。

    ☑ ‌中周波誘導加熱の原理は、電磁誘導とジュール熱効果に基づいています。中周波交流電流が誘導コイルを通過すると、コイルの周囲に急速に変化する交流磁場が発生します。この磁場内に導電性材料(金属など)を置くと、磁場は材料の表面を貫通し、材料内に閉ループの渦電流を誘導します。この渦電流は材料自体の抵抗に遭遇し、電気エネルギーを熱エネルギーに変換することで、材料の温度を急速に上昇させます。この加熱方法は、物理的な接触なしに材料内部に直接作用するため、高いエネルギー効率が得られ、汚染を防ぐことができます。

    ☑ ‌ダイナミック電流と安定した電力を備えた当社の誘導加熱部は、金属化材料の表面において優れた均一性を確保します。また、高調波干渉防止機能により、スパッタリングやピンホールの発生を防ぎます。誘導加熱部を備えたメタライザーは、金属糸の製造に最適です。

    注意: マシンの写真とパラメータは参考用であり、実際の構成によって異なります。

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    √基材フィルム(PET、BOPP、紙など)。

    √ロールの最大幅(mm)。

    √ロールの最大直径(mm)。

    √ロールの厚さ(μm)。

    √ 金属化材料(アルミニウム、スズなど)。

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